PCB Etching

Step by Step Photolithography

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Preparation

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  Es wird eine NaOH Lösung vorbereitet, um anschliessend die belichteten Kupferplatten zu entwickeln

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  Reines Natriumhydroxid wird in ein Becherglas eingewogen

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  10mg NaOH in 1L Wasser auflösen

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  Rühren...

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  Heisses Wasser (ca. 35°C) in die Schale geben

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  Natronlauge im Behälter in die Schale mit warmem Wasser legen

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  Auf ca 35°C aufwärmen lassen

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  Temperatur mit Thermometer überwachen

Mask alignment and illumination

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  Folie auf das UV-Belichtungsgerät platzieren

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  Kupferplatte auf die Folie legen

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  Gerät schliessen, Zeit eingeben (ca. 2min)

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  Start

Development

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  Nun folgt der Prozess der Entwicklung. Nach dem Belichten, die Kupferplatte in das NaOH-Bad legen

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  Ca. 3 bis 5min wirken lassen und gelegentlich schwenken

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  Die Teile der Kupferplatte, welche belichtet wurden, werden durch das NaOH aufgelöst (Polymere brechen auf)

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  Kupferplatte aus dem Bad nehmen und mit Wasser abwaschen

Etching

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  Nun wird in einem Natrium Perfsulfat geätzt (ca. 400g Natriumpersulfat auf 1.5L Wasser)

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  Die Lösung wird auf ca. 50°C geheizt und mittels Thermometer überwacht

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  Die Kupferplatte wird zum Ätzen in das Peroxidbad gegeben und für 5min darin gelassen

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  Die Kupferplatte wird aus dem Bad genommen

Stripping / Final cleaning with acetone

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  Die Kupferplatte wird mit Wasser gespült

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  Eventuell noch mit Aceton nachwaschen, um den Fotolack zu entfernen

Waste disposal and Recycling