PCB Etching: Difference between revisions
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== Step by Step Photolithography == | |||
== Final cleaning with acetone == | === Preparation === | ||
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File:photolitho_prep1.jpg|Es wird eine NaOH Lösung vorbereitet, um anschliessend die belichteten Kupferplatten zu entwickeln | |||
File:photolitho_prep2.jpg|Reines Natriumhydroxid wird in ein Becherglas eingewogen | |||
File:photolitho_prep3.jpg|10mg NaOH in 1L Wasser auflösen | |||
File:photolitho_prep4.jpg|Rühren... | |||
File:photolitho_prep5.jpg|Heisses Wasser (ca. 35°C) in die Schale geben | |||
File:photolitho_prep6.jpg|Natronlauge im Behälter in die Schale mit warmem Wasser legen | |||
File:photolitho_prep7.jpg|Auf ca 35°C aufwärmen lassen | |||
File:photolitho_prep8.jpg|Temperatur mit Thermometer überwachen | |||
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=== Mask alignment and illumination === | |||
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File:photolitho_illu1.jpg|Folie auf das UV-Belichtungsgerät platzieren | |||
File:photolitho_illu2.jpg|Kupferplatte auf die Folie legen | |||
File:photolitho_illu3.jpg|Gerät schliessen, Zeit eingeben (ca. 2min) | |||
File:photolitho_illu4.jpg|Start | |||
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=== Development === | |||
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File:photolitho_illu5.jpg|Nun folgt der Prozess der Entwicklung. Nach dem Belichten, die Kupferplatte in das NaOH-Bad legen | |||
File:photolitho_illu6.jpg|Ca. 3 bis 5min wirken lassen und gelegentlich schwenken | |||
File:photolitho_illu7.jpg|Die Teile der Kupferplatte, welche belichtet wurden, werden durch das NaOH aufgelöst (Polymere brechen auf) | |||
File:photolitho_illu8.jpg|Kupferplatte aus dem Bad nehmen und mit Wasser abwaschen | |||
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=== Etching === | |||
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File:photolitho_etch1.jpg|Nun wird in einem Natrium Perfsulfat geätzt (ca. 400g Natriumpersulfat auf 1.5L Wasser) | |||
File:photolitho_etch2.jpg|Die Lösung wird auf ca. 50°C geheizt und mittels Thermometer überwacht | |||
File:photolitho_etch4.jpg|Die Kupferplatte wird zum Ätzen in das Peroxidbad gegeben und für 5min darin gelassen | |||
File:photolitho_etch5.jpg|Die Kupferplatte wird aus dem Bad genommen | |||
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=== Stripping === | |||
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File:photolitho_etch6.jpg|Die Kupferplatte wird mit Wasser gespült | |||
File:photolitho_etch7.jpg|Eventuell noch mit Aceton nachwaschen, um den Fotolack zu entfernen | |||
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=== Final cleaning with acetone === | |||
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Revision as of 14:21, 21 August 2010
Step by Step Photolithography
Preparation
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Es wird eine NaOH Lösung vorbereitet, um anschliessend die belichteten Kupferplatten zu entwickeln
-
Reines Natriumhydroxid wird in ein Becherglas eingewogen
-
10mg NaOH in 1L Wasser auflösen
-
Rühren...
-
Heisses Wasser (ca. 35°C) in die Schale geben
-
Natronlauge im Behälter in die Schale mit warmem Wasser legen
-
Auf ca 35°C aufwärmen lassen
-
Temperatur mit Thermometer überwachen
Mask alignment and illumination
-
Folie auf das UV-Belichtungsgerät platzieren
-
Kupferplatte auf die Folie legen
-
Gerät schliessen, Zeit eingeben (ca. 2min)
-
Start
Development
-
Nun folgt der Prozess der Entwicklung. Nach dem Belichten, die Kupferplatte in das NaOH-Bad legen
-
Ca. 3 bis 5min wirken lassen und gelegentlich schwenken
-
Die Teile der Kupferplatte, welche belichtet wurden, werden durch das NaOH aufgelöst (Polymere brechen auf)
-
Kupferplatte aus dem Bad nehmen und mit Wasser abwaschen
Etching
-
Nun wird in einem Natrium Perfsulfat geätzt (ca. 400g Natriumpersulfat auf 1.5L Wasser)
-
Die Lösung wird auf ca. 50°C geheizt und mittels Thermometer überwacht
-
Die Kupferplatte wird zum Ätzen in das Peroxidbad gegeben und für 5min darin gelassen
-
Die Kupferplatte wird aus dem Bad genommen
Stripping
-
Die Kupferplatte wird mit Wasser gespült
-
Eventuell noch mit Aceton nachwaschen, um den Fotolack zu entfernen
Final cleaning with acetone
Waste disposal and Recycling
