PCB Etching: Difference between revisions
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Revision as of 00:48, 20 March 2015
Step by Step Photolithography
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Preparation
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Es wird eine NaOH Lösung vorbereitet, um anschliessend die belichteten Kupferplatten zu entwickeln
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Reines Natriumhydroxid wird in ein Becherglas eingewogen, oder die abgepackten säckli verwenden
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10g NaOH in 1L Wasser auflösen. Immer erst das Wasser dann die Lauge!
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Rühren...
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Heisses Wasser (ca. 35°C) in die Schale geben
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Natronlauge im Behälter in die Schale mit warmem Wasser legen
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Auf ca 35°C aufwärmen lassen
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Temperatur mit Thermometer überwachen
Mask alignment and illumination
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Folie auf das UV-Belichtungsgerät platzieren
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Kupferplatte auf die Folie legen
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Gerät schliessen, Zeit eingeben (ca. 2min)
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Start
Development
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Nun folgt der Prozess der Entwicklung. Nach dem Belichten, die Kupferplatte in das NaOH-Bad legen
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Ca. 3 bis 5min wirken lassen und gelegentlich schwenken
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Die Teile der Kupferplatte, welche belichtet wurden, werden durch das NaOH aufgelöst (Polymere brechen auf)
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Kupferplatte aus dem Bad nehmen und mit Wasser abwaschen
Etching
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Nun wird in einem Natrium Perfsulfat geätzt (ca. 400g Natriumpersulfat auf 1.5L Wasser)
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Die Lösung wird auf ca. 50°C geheizt und mittels Thermometer überwacht
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Die Kupferplatte wird zum Ätzen in das Peroxidbad gegeben und für 5min darin gelassen
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Die Kupferplatte wird aus dem Bad genommen
Stripping / Final cleaning with acetone
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Die Kupferplatte wird mit Wasser gespült
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Eventuell noch mit Aceton nachwaschen, um den Fotolack zu entfernen
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Um Aceton zu sparen am besten in einer wanne spülen, danach noch mit wasser abspülen
Waste disposal and Recycling
