PCB Etching: Difference between revisions

Revision as of 14:24, 21 August 2010

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Es wird eine NaOH Lösung vorbereitet, um anschliessend die belichteten Kupferplatten zu entwickeln
Reines Natriumhydroxid wird in ein Becherglas eingewogen
10mg NaOH in 1L Wasser auflösen
Rühren...
Heisses Wasser (ca. 35°C) in die Schale geben
Natronlauge im Behälter in die Schale mit warmem Wasser legen
Auf ca 35°C aufwärmen lassen
Temperatur mit Thermometer überwachen

Nun folgt der Prozess der Entwicklung. Nach dem Belichten, die Kupferplatte in das NaOH-Bad legen
Ca. 3 bis 5min wirken lassen und gelegentlich schwenken
Die Teile der Kupferplatte, welche belichtet wurden, werden durch das NaOH aufgelöst (Polymere brechen auf)
Kupferplatte aus dem Bad nehmen und mit Wasser abwaschen

Nun wird in einem Natrium Perfsulfat geätzt (ca. 400g Natriumpersulfat auf 1.5L Wasser)
Die Lösung wird auf ca. 50°C geheizt und mittels Thermometer überwacht
Die Kupferplatte wird zum Ätzen in das Peroxidbad gegeben und für 5min darin gelassen
Die Kupferplatte wird aus dem Bad genommen

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 == Step by Step Photolithography ==
+see external instructions: [http://wetpong.net/wetpong/wiki/index.php?title=Photolithography wetpong]
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 === Preparation ===
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-=== Stripping ===
+=== Stripping / Final cleaning with acetone ===
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 File:photolitho_etch7.jpg|Eventuell noch mit Aceton nachwaschen, um den Fotolack zu entfernen
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-=== Final cleaning with acetone ===
 [[File:PCB_acetoenle.jpg|320px]]